晶体管中的电流分量

传导当前的NPN晶体管由于电子和PNP晶体管,它是由于孔。电流的方向将相反。在这里,我们可以使用公共基础配置讨论PNP晶体管中的当前组件。发射极限结(JE.)正向偏置和集电极基结(JC)逆转偏置,如图所示。所有与此相关的组件晶体管这里显示。
晶体管中的电流分量

我们知道,电流通过发射器到达晶体管,并且该电流称为发射极电流(iE.)。该目前由两个成分组成 -孔电流(一世) 和电子电流(一世EE.)。一世EE.是由于电子从基地到发射器和i是由于从发射器到基地的孔的通过。

通常,与工业晶体管的基部相比,发射器严重掺杂。因此,与孔电流相比,电子电流可忽略不计。因此,我们可以得出结论,该晶体管中的整个发射极电流是由于孔从发射器通向底座的通过。

一些穿过结j的孔E.(发射极结)与碱中存在的电子组合(n型)。因此,每个孔横穿jE.不会到达jC。剩余的孔将到达产生孔电流元件的集电极连接,IHC.。底座上会有批量重组,并将当前离开底座

底座中的电子通过与孔的重组丢失(注入跨jE.)通过进入基地区域的电子重新填充。到达收集器结的孔(JC)将交叉点交叉,它将进入收集器区域。

当发射器电路打开时,然后我E.= 0和我HC.= 0。在这种情况下,基础和收集器将作为反向偏置二极管执行。这里,收集器电流,iC将与反向饱和电流相同(iCO.或者我CBO.)。
一世CO.实际上是一种小的反向电流,通过了PN结二极管。这是由于热产生的少数载体,其被屏障潜力推动。这种反向电流增加;如果连接点反向偏置并且它将具有与集电极电流相同的方向。该电流达到饱和值(i0.)在适度的反向偏置电压下。

当发射器结处于向前偏置(在有源操作区域)时,收集器电流将变为

α是具有I的发射极电流的一部分的大信号电流增益。HC.
当发射器处于关闭状态时,我E.≠0和收集器电流将是

在PNP晶体管中,反向饱和电流(ICBO.)将包括由于从基部到收集器区域的集电器结的孔(i)HCO)和由于所通过的电子呈相反方向(I)的电子电流(i生态)。

进入的总电流晶体管将等于离开晶体管的总电流(根据Kirchhoff的现行法律)。

与当前组件相关的参数




直流电流增益(αDC.):如果是
然后
这可以称为公共基晶体管的直流电流增益。这将永远是积极的,它将少于团结。
小信号电流增益(αAC.):

带集电极基电压常数(vCB.)。它总是积极的,它将少于团结。

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